X-Ray Photoelectron Spectroscopy – XPS
Price
| Price | |
| XPS Operating time per hour | 2100 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour | 2450 |
| UPS System Operating time per hour | 2800 |
| LEIPS System Operating time per hour | 2800 |
| REELS System Operating time per hour | 2800 |
| XPS Component analysis per element | 350 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (GCIB) | 2450 |
| Price | |
| XPS Operating time per hour (Other University) | 2400 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (Other University) | 2800 |
| UPS System Operating time per hour (Other University) | 3200 |
| LEIPS System Operating time per hour (Other University) | 3200 |
| REELS System Operating time per hour (Other University) | 3200 |
| XPS Component analysis per element (Other University) | 400 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (GCIB) (Other University) | 2800 |
| Price | |
| XPS Operating time per hour (Government) | 2700 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (Government) | 3150 |
| UPS System Operating time per hour (Government) | 3600 |
| LEIPS System Operating time per hour (Government) | 3600 |
| REELS System Operating time per hour (Government) | 3600 |
| XPS Component analysis per element (Government) | 450 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (GCIB) (Government) | 3150 |
| Price | |
| XPS Operating time per hour (Enterprise) | 3000 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (Enterprise) | 3500 |
| UPS System Operating time per hour (Enterprise) | 4000 |
| LEIPS System Operating time per hour (Enterprise) | 4000 |
| REELS System Operating time per hour (Enterprise) | 4000 |
| XPS Component analysis per element (Enterprise) | 500 |
| Depth Profile or Angle Profile per hour (GCIB) (Enterprise) | 4000 |
X-Ray Photoelectron Spectroscopy – XPS
ULVAC-PHI
Model : PHI-VersaProbe4
X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) is the most widely used surface analysis technique. XPS can be used on a wide variety of materials and offers qualitative and quantitative data about the elemental composition and chemical state at the material’s surface. It is widely used for polymers, metals, ceramics, catalysts, thin films, photovoltaics, batteries, wear coatings, nanomaterials, semiconductor devices, magnetic storage media, display technology, 2-D materials and biomedical devices.
Feature
The PHI-VersaProbe 4 is a highly versatile, multi-technique instrument with monochromatic, micro-focused, scanning X-ray source.
- XPS (Al Kα X-ray, 1486.6 eV, 15-20 KV, 1-100 W)
- Surface chemical identification and quantification (Li to U)
- Electron affinity, energy level, vacuum level, and LUMO
- Valence band, ionization energy, work function
Evaluation of hydrogen and aromatic content in organic films
Application
Polymers, metals, ceramics, catalysts, thin films, photovoltaics, batteries, wear coatings, nanomaterials, semiconductor devices, magnetic storage media, display technology, 2-D materials and biomedical devices
Sample
- ตัวอย่างมีสถานะเป็นของแข็ง (ชนิดผง ฟิล์ม หรือเส้นใย) แห้งปราศจากความชื้น ไม่เป็นของเหลว ของไหล หนืด ไม่เป็นแก๊ส
- มีความเสถียรภายใต้ระบบสุญญากาศระดับ 10-7 Pa (Ultra high vacuum)
- ตัวอย่างจะต้องไม่มีน้ำมัน (oil) และสารระเหย (volatile) เป็นองค์ประกอบ
- ตัวอย่างจะต้องไม่มีการชุบ อาบ จุ่ม อบ ทา เคลือบ wax หรือพ่นด้วยน้ำมันหอมระเหย น้ำมันและสารระเหย
- การเตรียมตัวอย่างที่มีลักษณะเป็นผง ใช้ประมาณ 1 กรัม ถ้าสามารถอัดเม็ดได้ ให้อัดเม็ดโดยกำหนดความสูงไม่เกิน 2 mm และเส้นผ่านศูนย์กลางไม่เกิน 8 mm
- การเตรียมตัวอย่างที่มีลักษณะเป็น แท่ง แผ่น ฟิล์มบาง กำหนดให้ความสูงไม่เกิน 2 mm และความกว้างไม่เกิน 8 mm
- การเตรียมตัวอย่างที่มีลักษณะเป็นเส้นใย กำหนดให้มีความยาวไม่เกิน 20 mm และความหนาไม่เกิน 2 mm
Staff
นางสาวปริศนา แสงขำ
เจ้าหน้าที่บริการวิทยาศาสตร์ P7
Contact
E-mail : prissana.sa@chula.ac.th
Tel. : 02-218-88108